高檢測(cè)分辨率鑄態(tài)基體分析金相圖像顯微鏡
對(duì)定向凝固和單晶葉片材料再結(jié)晶行為的研究表明，再結(jié)晶層
的微觀組織結(jié)構(gòu)與原鑄態(tài)基體存在明顯的差別，這些差異無疑會(huì)引
起再結(jié)晶區(qū)域?qū)щ娦阅艿淖兓?/P>
由于再結(jié)晶層的范圍有時(shí)較�。ㄓ袝r(shí)僅在毫米量級(jí)）、深度較
淺（通常在十至百微米量級(jí)），采用常規(guī)的渦流檢測(cè)儀器和技術(shù)幾
乎難以測(cè)量出葉片上的再結(jié)晶的存在和嚴(yán)重程度，這一困難主要源
于常規(guī)檢測(cè)線圈的直徑要比再結(jié)晶區(qū)域大，測(cè)量能力達(dá)不到分辨出
再結(jié)晶區(qū)與原鑄態(tài)基體的電性能差異的水平。針對(duì)葉片再結(jié)晶形貌
與結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，探索采用渦流方法實(shí)施有效的測(cè)量，應(yīng)在以下三個(gè)
方面開展深入的研究：①再結(jié)晶區(qū)域?qū)щ娦宰兓潭葴y(cè)量；②消除
葉片型面變化所產(chǎn)生的影響；③提高渦流檢測(cè)的分辨率。
渦流檢測(cè)靈敏度的提高可以從兩個(gè)方面考慮：一是采用較高的
檢測(cè)頻率，如選擇lOOkHz- 1MHz頻率范圍。檢測(cè)頻率也不宜過高，
因?yàn)殡S著檢測(cè)頻率提高、渦流趨膚效應(yīng)增強(qiáng)，從理論上講檢測(cè)靈敏
度隨之提高，但葉片表面的光潔程度、檢測(cè)線圈與葉片型面的耦合
狀況等因素同樣會(huì)隨檢測(cè)頻率的提高而產(chǎn)生顯著的干擾。二是設(shè)計(jì)
專用的檢測(cè)線圈，較大程度上使檢測(cè)線圈小型化，或通過檢測(cè)線圈
形狀的特殊設(shè)計(jì)，在檢測(cè)區(qū)域形成焦點(diǎn)尺寸在毫米量級(jí)以下的聚焦
電磁場(chǎng)；同時(shí)配以專用的檢測(cè)夾持裝置，并控制檢測(cè)線圈精確、穩(wěn)
定掃查，也是提高檢測(cè)分辨率必須要考慮的因素。
