質(zhì)量檢驗(yàn)自動(dòng)驗(yàn)驗(yàn)設(shè)備-光學(xué)圖像顯微鏡的應(yīng)用
掩膜質(zhì)量檢驗(yàn)
掩膜及其組成單元盼全面檢驗(yàn)必須包括圖形單元陣列的中心對準(zhǔn)和陣列
的旋轉(zhuǎn)檢驗(yàn)。全面檢驗(yàn)還包括對掩膜標(biāo)題、尺寸標(biāo)記和掩膜版方向標(biāo)記的
檢驗(yàn)。在簡單的顯微鏡中，可用一些特殊的模板來檢驗(yàn)陣列旋轉(zhuǎn)；在自動(dòng)
驗(yàn)驗(yàn)設(shè)備中，可以使用汁贊：饑軟件進(jìn)行檢測。上述的各類缺陷(陣列中心
對準(zhǔn)和旋轉(zhuǎn)缺陷、各類標(biāo)題標(biāo)記缺陷等)統(tǒng)稱為粗缺陷，在掩膜版投入圓片
生產(chǎn)線以前就應(yīng)該發(fā)現(xiàn)。
溝槽光譜測量法
在掃描分光光度計(jì)中利用溝槽光譜法可測量薄膜厚度。無論是透明的或
不透明的薄膜都可放入分光光度計(jì)，觀察它們產(chǎn)生的條紋像，從而得到測
量結(jié)果。在透明基板(玻璃上的光刻膠圖像)的情況下，可見到一套特別的
互補(bǔ)條紋。溝槽光譜的名稱與條紋的名稱是同義的�，F(xiàn)在這種方法常用來
測量玻璃上的電介質(zhì)的厚度。
市場上已經(jīng)可提供利用溝槽光潛法的測量儀器，一般都與微處理機(jī)配
套。在配有計(jì)算機(jī)的測量設(shè)備中，掃描光束可識別反射光譜，并在小于15s
的短時(shí)間內(nèi)得出校準(zhǔn)后的薄膜厚度值。這種儀器可以測量薄到500nm的薄膜
，測量精度為5％。
上面所述的所有的光學(xué)的和機(jī)械的測量方法，在半導(dǎo)體工業(yè)中，都可
對1“m范圍的薄膜進(jìn)行厚度測量。某些方法是新的，例如棱鏡耦合法，需
要進(jìn)一步加以完善，才能在生產(chǎn)中實(shí)用。上述的所有方法，測量精度都在
百分之幾以內(nèi)，因此可適用于超大規(guī)模集成電路工藝。
