顆粒在基體中分布-橡膠炭黑分析圖像顯微鏡
顆粒在基體中的分布
填料顆粒在基體中的理想分布。這里試圖分析有關(guān)填料分布的實(shí)驗(yàn)
數(shù)據(jù)，并與預(yù)測(cè)填料堆積密度的理想模型比較，以確定造成兩者區(qū)別的
因素。
可以理解原位生成的填料顆粒在基體中為理想分布，實(shí)驗(yàn)研究表明
這種情況較復(fù)雜。將聚二甲基硅氧烷用四乙基原硅酸酯溶脹達(dá)到平衡
狀態(tài)，然后水解原位生成填料，此實(shí)驗(yàn)中基體和填料前驅(qū)體具有化學(xué)上
的相似性，因此基本具備產(chǎn)生均勻分布的理想條件。影響填料均勻分布
的因素有許多，包括：
·水解催化劑的選擇；
·水解時(shí)間：
·試樣厚度。
當(dāng)水解時(shí)間長(zhǎng)、試樣薄、催化劑呈堿性時(shí)可以得到最均勻的分布。
如果條件相反(水解時(shí)間短、試樣厚、酸性催化劑)則填料優(yōu)先分布在試
樣的邊緣。什么力量驅(qū)使填料的前驅(qū)體失去最初的平衡狀態(tài)呢？最有可
能的情況是，快速的工藝導(dǎo)致二氧化硅表層的形成，從而妨礙了內(nèi)層前
驅(qū)體水解需要的水分子的遷移，在這種情況下，即使四乙基原硅酸酯分
子比水分子大，它仍向表面擴(kuò)散來(lái)補(bǔ)償已經(jīng)轉(zhuǎn)化的部分，使其濃度達(dá)到
平衡。
