齲壞牙釉質(zhì)的電子顯微鏡觀(guān)察-牙釉質(zhì)的齲壞型式
牙釉質(zhì)的有機(jī)基質(zhì)在齲病的發(fā)生及發(fā)展中可能具有比一般所
認(rèn)為的更重要的作用。齲壞牙釉質(zhì)中有機(jī)物的特殊組成尚缺乏詳
細(xì)的資料。齲壞牙釉質(zhì)的透射電鏡觀(guān)察
關(guān)于牙釉質(zhì)的齲壞型式有兩個(gè)主要的學(xué)派，一派認(rèn)為柱鞘及
柱間牙釉質(zhì)的破壞先于釉柱本身；另一派則認(rèn)為釉柱是最易破壞
的結(jié)構(gòu)，兩者均有超微結(jié)構(gòu)的研究給予支持。另外，也有人認(rèn)為
所有的成分都同樣易遭破壞。
很多光學(xué)顯微鏡及顯微放射照相證據(jù)表明齲病的最初破壞取
決于其結(jié)構(gòu)。然而，多數(shù)正常的及齲壞的牙釉質(zhì)超微結(jié)構(gòu)研究，
未能顯示用光學(xué)顯微鏡易于觀(guān)察到的一些結(jié)構(gòu)象。曾提出過(guò)釉柱
的橫紋是由于釉柱的間歇變窄或晶體充塞密度的間歇的變化使然
。另外，晶體方向的位置局部改變?cè)徽J(rèn)為是橫紋出現(xiàn)的原因。
然而，在常規(guī)超薄片中，這些結(jié)構(gòu)均不能辨認(rèn)。因?yàn)樵诔⑺?BR>未觀(guān)察到這些特征，所以無(wú)法報(bào)告在使用這個(gè)方法時(shí)它們?cè)邶x病
的發(fā)生及發(fā)展中的意義。近來(lái)用掃描電鏡研究見(jiàn)到人牙釉質(zhì)釉柱
中有橫紋的存在。
