噴墨打印技術-印刷電子品制備分析圖像顯微鏡
雖然打印生物材料的系統(tǒng)和技術發(fā)展迅速，并且能制備功能化的材料
。接觸打印技術，光刻技術能打印出納米級分辨率的單層或者 印刷電
子品作為一種噴墨技術的潛在應用，受到了廣泛關注。從概念上講，印刷
電子品的目的是為了用印刷技術取代傳統(tǒng)的光刻半導體生產(chǎn)技術。預期利
用印刷技術能在塑料以及鋼箔等廉價的、可彎曲的基底上生產(chǎn)簡單的半導
體系統(tǒng)，且極大降低成本。
隨后，總結適用于噴墨印刷的電子材料的分類。最后，討論印刷電子
設備和電路的制備方法�；谶@些討論，對印刷電子品的前景作出展望。
從根本上來說，全球范圍內(nèi)對于印刷電子品的關注主要區(qū)I為印刷是一
種普遍的技術。噴墨打印為不同的電子材料在特定位置的沉積提供了一種
低成本的途徑。這對于電子系統(tǒng)的成本具有特別重要的意義。
傳統(tǒng)的電子系統(tǒng)一般是利片J刪減式光刻工藝制作。I]在任意電子材料
中(如導體、二極管或者半導體)構建圖案的過程一般如下：(1)在基質(zhì)層上
沉積電子材料，沉積通常采用真空條件下的化學氣相沉積或者物理氣相沉
積；(2)隨后基底用光刻膠涂覆；(3)光刻膠通過掩膜暴露于光刻系統(tǒng)巾；(
__1)光刻膠在基底的掩模區(qū)域顯影用于移除抗蝕劑；(5)利用濕化學法或干
刻蝕法(如等離子)刻蝕去除沉積的薄膜；沉積的薄膜只在先前光刻膠被顯
影移除的區(qū)域被刻蝕；(6)將剩余的光刻膠剝離使薄膜暴露；(7)最后。將
基底清洗移除光刻和刻蝕過程中的殘余雜質(zhì)。這七個步驟的掩膜和刻蝕過
程重復多次，最終得到復雜的沒備和電路。
