應(yīng)用電子顯微鏡高分辨率的觀察有機(jī)細(xì)胞壁
在觀察過(guò)程中遇到的問(wèn)題及假象
使用掃描電鏡，通常難以區(qū)分小范圍的形態(tài)特征和非有機(jī)質(zhì)及粘附在
有機(jī)結(jié)構(gòu)上的物體。潛在的無(wú)機(jī)物的假象可能包括殘留在揭片上的礦物質(zhì)
，以及酸蝕刻時(shí)沉積的粉末狀方解石。使用透射電鏡，在高倍鏡下對(duì)細(xì)胞
壁小碎片的確認(rèn)和定位是一個(gè)難題。標(biāo)準(zhǔn)蝕刻或深度蝕刻將會(huì)導(dǎo)致困難進(jìn)
一步加大，主要是由于細(xì)胞壁疏松并很容易破碎，或起泡而毀壞。此外，
在揭片中，礦物質(zhì)會(huì)弄鈍刀口，這樣有礙超薄切片。
詳細(xì)的高分辨率的觀察對(duì)標(biāo)準(zhǔn)揭片技術(shù)提出了許多問(wèn)題。實(shí)施的實(shí)驗(yàn)
方案進(jìn)入了一種兩難的境地。通常，我們想盡可能從有機(jī)細(xì)胞壁上除去礦
物質(zhì)，但是用酸進(jìn)一步處理又會(huì)毀壞細(xì)胞壁。正在消失的揭片技術(shù)提供了
：(”一種對(duì)細(xì)胞壁損害最小的蝕刻標(biāo)本的方法；(2)用一種溶劑支持蝕刻
的細(xì)胞壁，去掉所有的醋酸膜，并一起去掉牢固的礦物質(zhì)和粉
高倍下撕片技術(shù)運(yùn)用中出現(xiàn)的問(wèn)題
第一個(gè)問(wèn)題是，酸蝕刻時(shí)的起泡可能導(dǎo)致細(xì)胞壁的嚴(yán)重?fù)p害。對(duì)于平
行于巖石表面的細(xì)胞壁(典型縱向切片)和像薄壁組織和木質(zhì)部等組織中較
薄的細(xì)胞壁，這種損害尤其嚴(yán)重。用標(biāo)準(zhǔn)的7％—6％蝕刻強(qiáng)度的酸會(huì)導(dǎo)致
重大損壞。此外，細(xì)胞壁碎片會(huì)疏松，在高倍光學(xué)顯微鏡下造成假象。這
對(duì)解釋像孔和壁層加厚這樣細(xì)微尺度的結(jié)構(gòu)是一個(gè)大問(wèn)題。第二個(gè)問(wèn)題是
，有機(jī)壁物質(zhì)可能會(huì)隨礦物層而間接地固定到醋酸膜上。隨后的揭片脫礦
作用將去掉許多的有機(jī)物質(zhì)，特別是在縱向壁上。第三個(gè)問(wèn)題是，與蝕刻(
厚300—500μm)過(guò)程中粉末狀的殘余物(對(duì)碳酸鹽煤核的方解石)有關(guān)。這
些可以通過(guò)脫礦作用部分去除，但是，由于這些殘留物會(huì)深深地滲入到醋
酸膜中，仍會(huì)殘留一定數(shù)量
